應(yīng)用與特點(diǎn)：
全譜直讀光譜儀采用國際標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字化技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)，與國際光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學(xué)室設(shè)計及全數(shù)字化激發(fā)光源、領(lǐng)先的CCD檢測器、高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有極高的性能、極低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。
技術(shù)指標(biāo)：
項(xiàng)目指標(biāo)：檢測基體 Fe、Cu、Al、Pb、Zn、Sn、Ni等
檢測時間：試樣品類型而定，一般25s左右
光學(xué)系統(tǒng)：帕型－龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長范圍：130～850nm
焦距：400mm
探測器：高性能CCD陣列
電極：鎢材噴射電極
分析間隙：3.4mm
工作溫度：(10～35)℃
存儲溫度：(0～45)℃
工作濕度：20％～80％
氬氣純度要求：99.999%
氬氣進(jìn)口壓力：0.5MPa
氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min，維持流量約0.4L/min
激發(fā)**功率：400VA
光源類型：全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率：100-1000 Hz
放電電流：**400A
激發(fā)臺孔徑：13mm
真空系統(tǒng)：真空軟件自動控制、監(jiān)測
工作電源：220V AC，50/60Hz，保護(hù)性接地的單相電源
儀器尺寸：725*865*550（mm）
儀器重量：80kg
